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回折光学素子の作り方

回折光学素子は、主に設計で導いた位相分布を階段構造に量子化し置き換え、平面にこれを深さ情報として加工する表面レリーフにて成形されます。 グレーティングや回転対称の位相分布は機械切削で加工する事も可能ですが、通常は露光にて成形されます。 露光はマスクを用いてエッチングする手法か、レーザーなどを用いてフォトレジストに描画し、エッチングを施す手法が主流です。 特殊な事例として、レーザー干渉を用いてフォトレジストに加工する手法もあります。 それぞれ特徴と一長一短がありますが、弊社のパートナーは総じて直接描画法によるマスクレス露光を採用しております。 量産はニッケル電鋳や樹脂マスターを介して転写する手法が主です。 転写はインジェクションモールディングやUV硬化樹脂を用いたナノインプリントが用いられます。 弊社のパートナーは転写効率に優れるナノインプリントを採用しております。